芯片的重要性是毋庸置疑的，无论我们所使用的智能设备还是一些医学、工业乃至是军事领域都需要使用到芯片。这也是为什么中国在尽全力发展国产芯片以及美国千方百计阻挠国产芯片发展的原因。

不过，芯片自研的道路其实很曲折，也很困难，因为芯片制造涉及到多个领域，不仅需要先进的技术，还要有高端的材料和设备支持。目前国际上的芯片厂商大多都专注于某一领域，并且对国际供应链极度依赖。

美国反复修改芯片规则，限制出货，就是为了将中国排除在国际供应链之外，断绝中国从国外进口一些先进设备和高端的芯片原材料。这样不仅能够限制中国先进芯片的发展，也能够限制中国芯片的产能。

就像华为一样，被限制了核心芯片的获取，想要出货手机的难度就提升了一大截，这也是为什么华为被断供之后手机出货量暴跌，不足之前十分之一的主要原因。

近期，日本宣布了限制23种半导体设备的出口，就是意图限制中国获得包括光刻机在内的多种先进芯片制造设备，只不过中国厂商基本都实现了国产替代，因此造成的影响并没有想象当中那么大。

日本除了芯片制造设备领域实力强大之外，在多种芯片材料方面的实力也十分强大，因此并不排除日本后续会进一步限制芯片制造材料，如光刻胶等出口。

最新消息传出，中国的国产光刻机自给率突破1%，并且产能规模正在逐渐扩大，假以时日，中国国产的光刻胶能够满足国内大多数芯片厂商的需求，不过有一个奇怪的现象也出现了，那就是中国厂商在先进的EUV光刻机方面发展缓慢，甚至是一无所获。这到底是怎么一回事呢?

光刻胶的重要性

光刻胶是一种化学物质，应用在半导体制造的光刻工业当中，通过将其涂抹覆盖在硅片表面，使得硅片在紫外线或者电子束曝光之后能够产生化学方面。由于光刻胶的光敏感性，发生化学反应之后，光刻胶在曝光部分会发生不溶解或者更加溶解，可以在硅片表面形成所需要的图案。


光刻胶是一种高分子材料，其制造过程十分困难，因此在很长一段时间之内，中国芯片厂商都需要从国外进口。在光刻胶领域，日本企业的富士化学、东京电子、JSR等企业一直都处于垄断地位，占据了国际上大多数的光刻胶市场份额。

根据最新消息，中国厂商南大光电已经成功掌握了ArF光刻胶核心技术，主要集中在90nm到28nm领域，已经开发出了多款ArF光刻胶并且在下游客户处进行验证了。

南大光电在研发成功光刻胶技术并且进行验证之后，就开始小批量的出货光刻胶了，目前已经推动中国光刻机自足率突破1%。随着南大光电的光刻胶进一步验证之后，其必然会扩大产能，进一步扩大光刻胶的出货，这就能够帮助中国光刻胶率不断提升。

并且随着南大光电的技术突破，国内其他厂商在光刻胶领域的发展也能够更加轻松，通过合作、合资建厂等方式推动中国国产光刻胶的发展。

中国EUV光刻胶发展缓慢

虽然南大光电在ArF光刻胶领域取得了重大核心突破，但是令人奇怪的是，国内厂商在EUV光刻胶方面的发展却有些缓慢，国产高端光刻胶一直没有传出什么进展消息，这令人十分疑惑。

在深入了解之后发现，日本企业在EUV光刻胶方面掌握了大量的专利技术，想要绕开这些专利技术发展EUV光刻胶并不容易，国内厂商很容易在不小心的时候发生侵犯知识专利产权的事情，如果被日企起诉的话，将面临一笔规模不小的赔偿。

再加上高端EUV光刻胶的研发难度较大，需要投入的资金、人力物力并不在少数，因此国内厂商在高端EUV光刻胶的研发方面十分小心，甚至称得上是束手束脚的。在这种情况之下，国内想要研发出来国产的高端EUV光刻胶的难度很大。

不过，随着90nm到28nm领域的光刻胶研发完成，国内诸多厂商已经开始和高校、科研机构合作，进入到EUV光刻胶的研发领域，随着这些企业的不断研发、发展，中国距离突破高端EUV光刻胶技术已经不远了。

从目前的情况来看，相比较于国产EUV光刻胶而言，加大28nm及以上的光刻胶出货更加关键，毕竟目前国内芯片厂商大多数还是在以28nm及以上成熟工艺制程芯片为主。并且国产光刻胶的自给率还是有待提高的。

一旦国内的光刻胶基本满足国内厂商的需求，就意味着中国厂商在芯片供应链上又完成了一环的布局，能够在极大程度上推动完成70%芯片自足目标的完成。